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中国芯接下来的突破方向:让7nm芯片,比3nm性能更强

   日期:2024-08-26       caijiyuan   评论:0    移动:http://mip.xhstdz.com/news/6131.html
核心提示:众所周知,目前美国正在对中国产业进行最为严厉打压。按照美国的目标,锁死逻辑芯片在14nm工艺,DRAM内存在18nm,而NAND闪存在12

众所周知,目前美国正在对中国产业进行最为严厉打压。

按照美国的目标,锁死逻辑芯片在14nm工艺,DRAM内存在18nm,而NAND闪存在128层。任何比这些技术更先进的设备,是限制进入中国市场的。

当然,在美国限制之前,国内也有一些厂商,买到了部分先进的设备,但产量不太高,所以也部分突破了限制,比如逻辑芯片,肯定不再是14nm了。

不过,就当前的形势来看,接下来中国芯的努力方向,可能还是怎么样让7nm的芯片,比3nn芯片性能更强。

别把这当玩笑话,而是实情确实如此。

之前董事张平安,就说过,我们得不到5nm、3nm,搞定7nm就很好了,我们的创新方向不能在单点的芯片工艺上,我们的创新方向应该在系统架构上。

其实他的话,说的非常清楚了,目前由于我们没有EUV光刻机,短时间之内,国产EUV光刻机也不可能研发的出来,所以进入5nm及以下,基本是是没戏的。

我们能够生产的,其实也就是7nm芯片,这就是当前比较好的结果了。

但相比于5nm、3nm、2nm,7nm芯片的工艺肯定是落后一些,我们就不要去想着卷工艺,而是在系统架构上去创新了,让7nm芯片,媲美5nm、3nm这些。

何谓系统架构上创新?一是采用更好的晶体管结构,比如3D的、立体的等等,二是采用更好的封装技术,比如层叠、堆叠、立体封装等。或者采用小芯片技术,将众多的芯片组在一起这些。还可以采用新材料,比如碳基芯片,光电芯片等。

事实上,目前芯片行业本身,也在探索这些技术,因为目前的芯片工艺已经接近物理极限了,很难持续不断的缩小了,接下来就是使用新材料,新架构等,在芯片没有变化的情况之下,实现性能的提升。

而华为之前的麒麟9000S、麒麟9010也证明了这一点是可行的, 因为这两款芯片不是5nm工艺的,性能上却不输给5nm的高通、联发科芯片。

所以说,接下来,国产芯片的目标,并不是一定强求去突破5nm、3nm、2nm这些,而是立足已经实现的7nm,再进行挖掘,让其可以和5nm、3nm媲美。

至于工艺微缩前进,也不放弃,但却不是死磕不放,而是多方向走路,相互结合,相互前进,你觉得呢?

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